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产品信息
产品名称：OTSUKA广州代理OTSUKA 光谱干扰晶圆厚度计 SF-3 大塚电子
产品型号：OTSUKAOTSUKA SF-3
生产厂商：OTSUKA大塚电子
产品数量：不限
产品单价：电议
详细介绍

OTSUKA大塚电子广州代理,大塚电子广州代,OTSUKA大塚电子广州代理,藤野贸易（广州）有限公司,OTSUKA大塚电子代理商. 光谱干扰晶圆 厚度计 SF-3日本OTSUKA大塚电子光谱干扰晶圆厚度计SF-3日本OTSUKA大塚电子光谱干扰晶圆厚度计SF-3日本OTSUKA大塚电子光谱干扰晶圆厚度计SF-3日本OTSUKA大塚电子光谱干扰晶圆厚度计SF-3日本OTSUKA大塚电子光谱干扰晶圆厚度计SF-3日本OTSUKA大塚电子 製品情報 特　長
光学式により非接触・非破壊での厚み測定が可能 スペクトル解析後による条件出し 高速でリアルタイムに研磨モニタが可能 保護フィルム、窓材など中間層越しの計測が可能 多層厚み解析 独自解析エンジンを搭載（特許出願中） 厚み測定に適な独自の解析アルゴリズムを採用（特許取得済み） 厚み分布を自動でマッピング可能
測定項目
膜厚解析（5層）
用　途
Si部材の厚み評価 シリコン、化合物半導体の研削評価用 1.3mm　次世代450mmウェーハ 775µm　300mmウェハ TSVウェーハ（ビア上Si膜やSi層膜測定） シリコンウェーハ以外の素材にも幅広く対応（SiO2、樹脂膜） 仕　様
型式 SF-3 厚み測定範囲 0.1µm～10µm、15µm～1000µm、10µm～775µm * 、50µm～1600µm* 繰り返し精度 0.01%以下 測定時間 速200µs（5kHz） 測定用光源 半導体光源 測定径 小φ6µm WD 10mm以上の任意の距離による 寸法 123（W）×224（D)×128（H）mm（突起物を除く） *　ただし表面状態による
12インチウェーハ以下高速マッピング可能なコンパクトマッピング仕様
高速Rθステージ　SF-3Rθ



特　長


Rθ可動軸による高速マッピング仕様 コンパクト設計マッピングステージ 半導体プロセス装置への組込み可能（組込みマッピング仕様） オリフラ、ノッチの画像認識機能 分光干渉法により非接触・非破壊で高い再現性を実現 貼り合せウェハの薄膜ボンディング、Si厚み、サポート基板のトータル厚み測定 多層厚み測定が可能 オリフラ、ノッチの画像認識によるウェーハ面内高精度位置決めを実現　


仕　様
型式 SF-3Rθ 光学系 光学プローブ 厚み測定範囲 0.5 ～ 1600µm * 可動軸 Rθ 測定径 φ6、φ9、φ500µm ステージ面サイズ φ300mm 可動軸ストローク R軸：±150mm、θ軸：360° ウェーハサイズ 300ｍｍ以下 計測時間 61ポイント/60ｓ以下 大駆動速度 150ｍｍ/ｓ ステージ分解能 10µｍ以下 繰り返し位置決め精度 50µｍ以下 その他機能 画像処理によるオリフラ及びノッチ合わせ機能 吸着 あり 特注 アライメント対応、ローダ対応
*　分光器のタイプに依存



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